技術特點: 1.采用分子泵機組抽真空,真空度高,,無油污染,。 2. 具有三個靶座,可同時濺射兩種金屬,,可形成多層復合膜或實現(xiàn)金屬共濺射,。 3. 片子可旋轉,不僅可以提高均勻性,,而且可以降低片子上的溫度,,特別適合于用剝離(lift-off)技術制備各種難腐蝕金屬的亞微米圖形(如Au、Pt,、Ta,、超導材料等)。 4. 用兩個質量流量計控制氣流量,,可實現(xiàn)氣體準確混合,,提高工藝重復性??赏饨?種氣體(如Ar,、O2、N2等),。 5. 濺射時間可預置設定,,用數(shù)字定時器定時。 6. 可加工Ф2-4英寸的片子,。由于采取了獨特的結構,,均勻性好是其突出的優(yōu)點。 主要指標: 1. 射頻電源500W,頻率13.56Mhz,。直流電源2000W,,共兩種電源,功率可調,。帶匹配器和定時器,。 2. 真空室直徑600mm,三個靶座,??尚D載片架。 3. 本地真空度優(yōu)于5X10-4Pa,。 4. 采用1200升/秒分子泵及8升/秒機械泵組成的真空系統(tǒng),。 5. 用碘鎢燈加熱,溫度設定可控,,數(shù)字顯示,。 6. 均勻性誤差:±4%(4英寸內(nèi))。 應用狀況: SP-8A型磁控濺射臺是一種經(jīng)長期實踐檢驗,、性能優(yōu)良的科研和生產(chǎn)兩用型設備,。它可用于各種金屬薄膜(如Au、Ag,、Pt,、W、Mo,、Ta,、Ti、Al,、Si,、ITO等)的淀積。 可根據(jù)用戶具體要求協(xié)商調整配置,,可提供濺射工藝咨詢和提供上述剝離技術,。 本機具有極高的性能/價格比,得到國內(nèi)科研單位及高校用戶的好評,。 |