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先進(jìn)制造
燒結(jié)釹鐵硼表面物理氣相沉積防護(hù)技術(shù)產(chǎn)業(yè)化

1,、項(xiàng)目簡(jiǎn)介:
    燒結(jié)釹鐵硼以其優(yōu)異的磁性能和高的性價(jià)比獲得了廣泛應(yīng)用,,隨著其在各類(lèi)動(dòng)力電機(jī)的應(yīng)用,,需求量還將進(jìn)一步加速上升。但是,燒結(jié)釹鐵硼較差的耐蝕性限制了其使用,,因此,須對(duì)其表面進(jìn)行防護(hù)處理,。國(guó)內(nèi)常見(jiàn)的工業(yè)規(guī)模的釹鐵硼表面防護(hù)處理方法為電鍍。但是電鍍工藝對(duì)環(huán)境帶來(lái)很大的污染,因此尋找無(wú)污染的替代工藝成為行業(yè)健康發(fā)展的必然趨勢(shì),。另外,,燒結(jié)釹鐵硼的應(yīng)用場(chǎng)合逐漸從傳統(tǒng)的常溫、低腐蝕環(huán)境向高溫,、高腐蝕環(huán)境發(fā)展,。特別近年電機(jī)的加速發(fā)展,動(dòng)力電機(jī)磁體,,會(huì)因?yàn)殡姍C(jī)頻繁啟動(dòng)導(dǎo)致磁體溫度發(fā)生急劇變化,。由于電鍍鍍層與基體的結(jié)合屬于一種機(jī)械結(jié)合,,結(jié)合力不高,在交變溫場(chǎng)作用下鍍層應(yīng)力也發(fā)生波動(dòng)性變化,,導(dǎo)致鍍層剝離,因此,電鍍工藝本身也很難滿足電機(jī)磁體需求的發(fā)展,。

    采用真空濺射獲得的鍍層具有致密、結(jié)合強(qiáng)度高,、工藝過(guò)程污染少等優(yōu)點(diǎn),,鋁薄膜本身具有較好的塑性,因此具有較強(qiáng)的耐受高低溫沖擊性能,。隨著表面改性和薄膜制備技術(shù)的發(fā)展及日趨成熟,,產(chǎn)業(yè)化規(guī)模采用濺射工藝制備薄膜的工藝設(shè)備日益受到關(guān)注。但濺射技術(shù)鍍膜具有沉積速率低,,設(shè)備復(fù)雜等缺點(diǎn),。為了研究該技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的可行性,我們已經(jīng)自行設(shè)計(jì)了一臺(tái)設(shè)備用于研究和摸索可以工藝化的工藝,。

2,、市場(chǎng)背景:
    日本一些釹鐵硼磁體生產(chǎn)商采用Epson的一項(xiàng)介于熱蒸發(fā)和熱噴涂的技術(shù),將金屬鋁沉積在釹鐵硼表面用于防護(hù),。我國(guó)目前尚沒(méi)有單位掌握該項(xiàng)技術(shù),。從環(huán)境保護(hù)角度,目前在國(guó)內(nèi)廣泛采用的電鍍方法其后期環(huán)境治理成本會(huì)越來(lái)越高,。而物理氣相沉積工藝本身無(wú)環(huán)境污染,,產(chǎn)業(yè)化的環(huán)保壓力低得多。從市場(chǎng)角度,,稀土永磁體向隨汽車(chē)動(dòng)力和通用動(dòng)力電機(jī)市場(chǎng)的加速發(fā)展,,鍍鋁產(chǎn)品總量還有上升空間。據(jù)了解,,日本市場(chǎng)目前30%的磁體采用鍍鋁防護(hù),。

    近年來(lái)由于技術(shù)的發(fā)展,制造成本大大下降,。物理氣相沉積可以獲得的鍍層種類(lèi)很多,鍍Al膜是較為經(jīng)濟(jì)的方法之一,,而且由于鋁薄膜本身具有較好的塑性,,因此具有較強(qiáng)的耐受高低溫沖擊性能,是一種很有前景的先進(jìn)防護(hù)技術(shù),對(duì)其產(chǎn)業(yè)化的推廣研究工作應(yīng)引起產(chǎn)業(yè)界和政府職能部門(mén)的重視,。

    本項(xiàng)目從工藝路線上采用發(fā)展最快的磁控濺射鍍膜技術(shù),,從實(shí)施上選擇已有市場(chǎng)占有率的鍍鋁材料,面向?qū)δ透叩蜏亟蛔円筝^高的電機(jī)磁體,,逐步取代傳統(tǒng)工藝,。通過(guò)對(duì)設(shè)備和工藝的自主創(chuàng)新,,采用該技術(shù)鍍膜的磁體主要防護(hù)性指標(biāo)已經(jīng)達(dá)到和超過(guò)了日本指標(biāo)。鍍膜效率也有大幅度提高,。

3,、技術(shù)特點(diǎn)、指標(biāo):
技術(shù)特點(diǎn):
該技術(shù)是一種干法鍍膜技術(shù),不存在電鍍工藝的污染問(wèn)題,無(wú)需考慮環(huán)保成本;
采用磁控濺射方法沉積的鋁膜與釹鐵硼基體結(jié)合力優(yōu)異,,磁體可以在高低溫交變環(huán)境中的使用,而不出現(xiàn)薄膜脫落現(xiàn)象;
設(shè)備自動(dòng)化程度很高,不確定行因素較少,工藝穩(wěn)定,。

技術(shù)指標(biāo):
鍍層厚度5-15um連續(xù)可控,同一批次產(chǎn)品鍍層厚度均勻性明顯優(yōu)于電鍍,,和化學(xué)鍍水平相當(dāng),;
鍍層能通過(guò)120小時(shí)鹽霧試驗(yàn);
鍍層結(jié)合力明顯優(yōu)于電鍍,,能通過(guò)﹣200℃到﹢200℃溫度交變沖擊10次,膜與基體結(jié)合力在20MPa以上;
鍍層能通過(guò)150小時(shí)飽和PCT試驗(yàn),,優(yōu)于同等鍍層厚度的電鍍水平;
鍍層能通過(guò)500小時(shí)以上濕熱試驗(yàn),;
磁能積同比下降<2%,,矯頑力同比下降<1.5%。